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期刊论文
有埋层图形外延片表面HCI腐蚀量的控制
有埋层图形外延片表面HCI腐蚀量的控制
来源 :微电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ddllmmttyy
【摘 要】
:
本文经大量实验和多年工作实践,得到了做有理层图形外延片HCl腐蚀的浓度,HCl腐蚀量的数据。对不同理层图形外延片HCl腐蚀的一些规律现象进行理论分析。最后文章也阐述了有理层
【作 者】
:
张国仁
孙伯祥
陈郁文
肖建农
【机 构】
:
中国华晶电子集团公司材料工厂!无锡,214061
【出 处】
:
微电子技术
【发表日期】
:
1995年4期
【关键词】
:
HCI腐蚀
埋层图形
外延片
方块电阻
腐蚀速率
腐蚀量
双极集成电路
双极电路
外延层
集电极串联电阻
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本文经大量实验和多年工作实践,得到了做有理层图形外延片HCl腐蚀的浓度,HCl腐蚀量的数据。对不同理层图形外延片HCl腐蚀的一些规律现象进行理论分析。最后文章也阐述了有理层图形外延片表面HCl腐蚀不利一面。
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