【摘 要】
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空穴注入层对有机发光二极管的性能有重要的影响,尤其是当器件中的空穴传输材料的最高占据分子轨道能级较深的时候。近年来有许多关于新型的溶液法空穴注入材料的研究。在本
【机 构】
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上海交通大学TFT-LCD关键材料及技术国家工程实验室
【基金项目】
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国家重点研发计划(2017YFB1002900)资助项目
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空穴注入层对有机发光二极管的性能有重要的影响,尤其是当器件中的空穴传输材料的最高占据分子轨道能级较深的时候。近年来有许多关于新型的溶液法空穴注入材料的研究。在本文中,我们对溶液法MoO3薄膜使用了三种不同的处理方法来研究其对空穴注入性能的影响,即:在空气中150°C退火;在空气中150°C退火再紫外臭氧处理(UVO)15 min;只进行UVO处理15 min。结果发现当MoO3薄膜在空气中150°C退火后,器件的电流最小,空穴注入能力最差。而当MoO3薄膜经过UVO处理后,器
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