NaOH溶液浓度对激光刻蚀多晶硅片表面织构的影响

来源 :井冈山大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:tangroo
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利用扫描电镜表征硅片样品的表面形貌,用光谱仪测试硅片的反射率,并且用少子寿命测试系统测试硅片电学性能,研究了在进行多晶硅太阳能电池表面织构过程中NaOH溶液浓度对其的影响,结果表明:NaOH溶液浓度选择10%时,有效清除多晶硅片表面缺陷的同时,硅片表面织构减反射效果显著,并能兼顾硅片电学性能。
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