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2006年11月英特尔决定采用193nmArF浸没式光刻技术研发32nm工艺。2007年2月IBM决定在22nm节点上抛弃EUV光刻技术，采用193nmArF浸没式光刻技术。对于32nm／22nm工艺．193nmArF浸没式光刻技术优于EUV光刻技术，并将成为主流光刻技术。
193nmArF浸没式光刻技术PK EUV光刻技术
【摘 要】
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2006年11月英特尔决定采用193nmArF浸没式光刻技术研发32nm工艺。2007年2月IBM决定在22nm节点上抛弃EUV光刻技术，采用193nmArF浸没式光刻技术。对于32nm／22nm工艺．193nmArF浸没
【机 构】
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无锡市罗特电子有限公司
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2007年4期
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