反应磁控溅射制备Ti—Si—N薄膜的摩擦磨损性能

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zzhang123
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用反应磁控溅射方法,在不锈钢表面沉积Ti-Si-N薄膜.用原子力显微镜观察薄膜的表面形貌,Ti-Si-N颗粒尺寸小于0.1 μm,用亚微压入仪测试薄膜硬度,当硅的摩尔分数为9.6%时,薄膜硬度出现最大值47 GPa.球-盘式摩擦磨损结果表明,Ti-Si-N薄膜的耐磨性能明显优于TiN薄膜,加入少量硅元素后,TiN薄膜的抗磨损性能有显著提高,但Ti-Si-N薄膜的室温摩擦系数较高(0.6~0.8),高温下摩擦系数也仅轻微降低(550℃,0.5~0.6).由于Ti-Si-N薄膜的摩擦系数可能与磨损中氧化物生成
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