微弧氧化技术的发展现状和存在问题分析

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概述了微弧氧化技术的国内外研究现状、成膜机理和涂层制备的影响因素以及应用情况等,并对微弧氧化技术存在的问题和发展趋势进行了探讨。微弧氧化技术在民用、航空航天等领域具有广阔的发展前景,但至今没有一个完美的理论模型来解释整个微孤氧化成膜的过程;电解液的稳定性问题也是困扰企业和急待解决的难题,而低处理效率和高能耗问题是限制微弧氧化技术产业化应用的关键。
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