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介绍了用真空感应熔炼方法生产用于高阻值薄膜电阻器的磁控溅射靶材，并报告了用这种靶材进行薄膜电阻器生产的溅射工艺参数和热处理方法，以及电阻器的电学性能测试结果。实际生产表明，这种用真空感应熔炼方法生产的靶材，完全能用于薄膜电阻器的磁控溅射并能得到满意的薄膜电阻器的性能指标。
真空感应熔炼靶材磁控溅射生产高阻值薄膜电阻器
【摘 要】
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介绍了用真空感应熔炼方法生产用于高阻值薄膜电阻器的磁控溅射靶材，并报告了用这种靶材进行薄膜电阻器生产的溅射工艺参数和热处理方法，以及电阻器的电学性能测试结果。实际生
【机 构】
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上海交通大学材料科学系高温材料及高温测试开放实验室,上海无线电一厂
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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1998年03期
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