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本文讨论了对与ITO膜导电与透射机理有关的浅射靶基本原则，并说明了制造靶的一种新型全集成工艺，该工艺可以确保优异、高溅射再生特性。靶具有超高均匀密度，并且能够与ITO薄膜的晶体结构、电荷载体密度及氧化学计量相匹配。
由超高密度单相靶优化制备ITO薄膜
【摘 要】
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本文讨论了对与ITO膜导电与透射机理有关的浅射靶基本原则，并说明了制造靶的一种新型全集成工艺，该工艺可以确保优异、高溅射再生特性。靶具有超高均匀密度，并且能够与ITO薄膜的
【出 处】
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光电技术
【发表日期】
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2001年3期
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