【摘 要】
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在真空蒸发镀膜过程中,元件面形的改变主要决定于基底应力(包括自重应力与残余应力)在镀膜前后的分布状态。通过建模定性分析发现,基底的自重应力在薄膜沉积前后施加并撤除的
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室;
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在真空蒸发镀膜过程中,元件面形的改变主要决定于基底应力(包括自重应力与残余应力)在镀膜前后的分布状态。通过建模定性分析发现,基底的自重应力在薄膜沉积前后施加并撤除的状态变化,会导致薄膜与基底界而产生相互制约的应力。由此引起的基底形变幅度微小,基本可忽略不计;因此,基底的残余应力是导致真空蒸镀过程中基底而形变差的主要因素。在抛光前对基底进行精密退火处理,可以有效地消除由基底残余应力引起的无规则形变。
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