甩胶喷雾热分解法制备ITO薄膜及光电性能研究

来源 :纳米科技 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mcl19800627

【摘要】

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按In：Sn（物质的量比）=9：1,InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为前驱物,采用自制甩胶喷雾热分解制备薄膜装置在普通玻璃衬底上沉积了ITO薄膜,结果表明,采用自制甩胶喷雾热分解制备

【作者】

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佟帅武光明朱艳英张志乾颜炳嘉曹闯

【机构】

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北京化工大学,北京石油化工学院,北京理工大学

【出处】

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纳米科技

【发表日期】

：

2011年2期

【关键词】

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甩胶喷雾热分解法 ITO薄膜光电性能 spin spray pyrolysis method indium-tin oxide thin film opt

【基金项目】

：

北京市教委面上项目（KM201010017009）

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按In：Sn（物质的量比）=9：1,InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为前驱物,采用自制甩胶喷雾热分解制备薄膜装置在普通玻璃衬底上沉积了ITO薄膜,结果表明,采用自制甩胶喷雾热分解制备薄膜新装置成功制备出ITO薄膜。该装置结构简单、操作方便。制备ITO薄膜优化条件为：甩胶转速800r/min、衬底温度250℃、退火温度450℃、载气为空气、流量为7L/min、液体雾化速度0.2ml/min、雾粒速度3.5m/s。薄膜的沉积时间为5min,薄膜厚度约1000nm,最低电阻率为0.

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