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综合考虑宏观条件对射频溅射镀膜过程的影响，采用等离子鞘层理论、理想气体理论、蒙特卡罗法，模拟在真空气压、气体流量、电压、温度等等参数综合作用后离子的能量、方向、分布等。相应实验验证结果与模拟结果较为一致，因此，可以认为目前的结论足以作为进一步模拟的条件。
环境气氛对射频溅射镀膜的影响
【摘 要】
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综合考虑宏观条件对射频溅射镀膜过程的影响，采用等离子鞘层理论、理想气体理论、蒙特卡罗法，模拟在真空气压、气体流量、电压、温度等等参数综合作用后离子的能量、方向、分布
【机 构】
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西北工业大学材料学院
【出 处】
：
机械科学与技术
【发表日期】
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2006年5期
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