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首先论述了膜厚测量仪应用的广泛性以及膜厚样片用于校准膜厚测量仪的重要性;其次,介绍了硅上氮化硅（Si3N4/Si）膜厚样片制作的必要性,并从样片的图形设计、加工工艺选择等方面详细阐述了硅上氮化硅膜厚样片的研制过程;最后,对已试制的膜厚样片的均匀性、稳定性进行了相应的考核及分析,分析结果表明研制的硅上氮化硅膜厚样片具有较好的稳定性。