【摘 要】
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为实现图形片的全局平坦化,通过研究碱性阻挡层抛光液各成分对铜和介质(TEOS)去除速率的影响,遴选出一种碱性阻挡层抛光液。在此抛光液基础上添加不同质量分数的盐酸胍,对钽
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为实现图形片的全局平坦化,通过研究碱性阻挡层抛光液各成分对铜和介质(TEOS)去除速率的影响,遴选出一种碱性阻挡层抛光液。在此抛光液基础上添加不同质量分数的盐酸胍,对钽光片进行抛光,选出满足要求的抛光液,并在中芯国际图形片上验证此抛光液的修正能力。实验表明,当磨料质量分数为20%、盐酸胍质量分数为0.3%、I型螯合剂(FA/O I)体积分数为1%、非表面活性剂体积分数为3%时,钽和TEOS去除速率之和是铜去除速率的3.3倍,此种碱性阻挡层抛光液对钽的去除速率为42 nm/min,各项参数均满足工业要求。与商用酸性、碱性抛光液相比,该抛光液对碟形坑和蚀坑有更好的修正能力。
In order to achieve the global planarization of the graphic tablet, an alkaline barrier polishing solution was selected by studying the influence of the components of the alkaline barrier polishing solution on the removal rate of copper and the medium (TEOS). On the basis of this polishing solution, guanidine hydrochloride with different mass fractions was added to polish the tantalum plate, the polishing solution was selected to meet the requirements, and the correction capability of this slurry was verified on SMIC. Experiments show that when the mass fraction of abrasive is 20%, the mass fraction of guanidine hydrochloride is 0.3%, the type I chelator (FA / OI) is 1%, the volume fraction of non-surfactant is 3%, the removal rate of tantalum and TEOS The sum of copper removal rate of 3.3 times, this alkaline barrier slurry tantalum removal rate of 42 nm / min, the parameters meet the industrial requirements. Compared with the commercial acidic and alkaline polishing solution, the polishing solution has better correction ability to the craters and pits.
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