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应用于电子器件红外探测的发射率修正误差分析
应用于电子器件红外探测的发射率修正误差分析
来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mylook1028
【摘 要】
:
器件表面温度是表征器件热性能的重要参数,应用红外热像法探测表面温度时,影响其测量结果准确性的关键因素是表面发射率的修正,通过对红外热像法发射率直接修正误差的统计分析,给
【作 者】
:
何小琦
【机 构】
:
信息产业部电子第五研究所
【出 处】
:
电子工艺技术
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
红外热像
发射率
温度
红外探测
电子器件
Infrared imaging
Emissivity
Temperature
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器件表面温度是表征器件热性能的重要参数,应用红外热像法探测表面温度时,影响其测量结果准确性的关键因素是表面发射率的修正,通过对红外热像法发射率直接修正误差的统计分析,给出了不同条件下的发射率修正值标准差δ、误差ε的范围,提出了应用于电子器件的最小误差探测条件。
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