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提出了一个磁控溅射的低能量粒子(可以是离子或原子)加温沉积模型,特别考虑了溅射损伤和有一定能量的入射粒子对基底的加温作用,并和真空沉积在相同外界条件下作了比较.利用蒙特卡罗方法研究了低能量粒子(<100 eV)对金属原子沉积薄层的作用.结果表明,当溅射很弱时,粒子的加热作用会使沉积的薄膜更加平滑.