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针对用于MEMS的硅湿法深槽刻蚀技术,对KOH腐蚀液的配方、掩蔽技术等关键技术进行了研究,获得了优化的KOH腐蚀条件;利用该技术,成功地刻蚀出深度高达315μm、保护区域完好的深槽.为硅基MEMS体加工获得微机械结构提供了一个好方法.
用于MEMS的硅湿法深槽刻蚀技术研究
【摘 要】
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针对用于MEMS的硅湿法深槽刻蚀技术,对KOH腐蚀液的配方、掩蔽技术等关键技术进行了研究,获得了优化的KOH腐蚀条件;利用该技术,成功地刻蚀出深度高达315μm、保护区域完好的深
【机 构】
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模拟集成电路国家重点实验室,中国电子科技集团公司
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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2004年5期
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