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通过扫描电镜和GDA辉光放电光谱分析仪等手段，研究了压铸镁合金化学镀Ni-P的沉积过程，结果表明镁合金化学镀的前处理使基材表面呈现孔洞结构，活化形成比较平整的疏松网孔状MgF2和AIF3层：镁合金化学镀Ni-P的初始沉积过程，首先是Ni的还原析出，并不含P；随着Ni形核数量的增多和长大，有自催化能力的Ni层产生，镍磷共沉积开始：镀层中存在铬化物、氟化物与镀液成分以及Ni的混杂层。