溅射功率对 ZnO ∶Mn 薄膜结构、应力和光电性能的影响

来源 :菏泽学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gaolei000
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用直流磁控溅射法,在玻璃衬底上制备掺锰氧化锌(ZnO ∶Mn)透明导电薄膜.研究了溅射功率对薄膜结构、力学性能和光电性能的影响.功率对薄膜应力影响不是很大,且应力均为负值,表现为压应力.溅射功率通过改变晶粒尺寸和结晶程度而影响薄膜的导电性能:当溅射功率为135 W 时,薄膜的电阻率具有最小值为1.10×10^-2Ω·cm.实验表明,功率是影响 ZnO ∶Mn 薄膜性能的一个重要参量.
其他文献
用十六烷基三甲基溴化铵直接处理钙基蒙脱土(MMT),采用非等温DSC法研究了E-51/MMT/DDM体系的固化反应动力学,并用Kissinger方法求得其表观活化能(△E)为49.66kJ/mol,根据Crane理论计算
目的:探讨中药补脑安神胶囊(BNAS)的镇静催眠作用,为该药临床应用提供参考。方法:采用观察小鼠自发活动及小鼠戊巴比妥钠(阈下剂量)协同催眠时间的研究方法,进行镇静催眠实验。结果