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本文采用氩离子束轰击法，对不同晶体学表面形貌的ＣＶＤ金刚石膜进行抛光处理。结果表明，对不同表面开貌的金刚石膜，应合理选择离子束轰击入射角，提高离子束加速电压有利于提高抛光效率，（１００）择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度。
离子束轰击法金刚石薄膜抛光
【摘 要】
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本文采用氩离子束轰击法，对不同晶体学表面形貌的ＣＶＤ金刚石膜进行抛光处理。结果表明，对不同表面开貌的金刚石膜，应合理选择离子束轰击入射角，提高离子束加速电压有利于提高抛光效率
【机 构】
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北京科技大学材料科学与工程系,北京科技大学材料科学与工程系
【出 处】
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北京科技大学学报
【发表日期】
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1993年5期
【基金项目】
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国家高技术计划新材料领域专家委员会资助项目 863-715-03-02-02
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