【摘 要】
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光刻技术,顾名思义就是一种用光刻印的技术,它广泛应用于半导体制造行业以及许多其他纳米技术应用中;为适应当今微电子产品日趋微型化的趋势,相关应用领域越来越需要具备高生
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光刻技术,顾名思义就是一种用光刻印的技术,它广泛应用于半导体制造行业以及许多其他纳米技术应用中;为适应当今微电子产品日趋微型化的趋势,相关应用领域越来越需要具备高生产能力的光刻设备,,本文主要探讨了位置反馈技术在现代光刻工艺中的应用,以及最新光栅系统和传统激光尺系统各自的优势与潜能,这些特性为机器设计人员提供了极大的灵活性,使其能够探索如何在不影响性能的前提下最大程度地减少光刻设备的占地面积.
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