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用同步辐射软Ｘ射线光电子能谱和Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）研究了室温下氧与原位生长于Ｎｉ（１１０）上的Ｇｄ薄膜及Ｇｄ－Ｎｉ复合薄膜的相互作用。氧在３．７ｎｍ的Ｇｄ膜上有很高的初始粘附几率。Ｇｄ４ｆ双峰中的高结合能峰随氧暴露量的增加逐渐衰减，在吸附了５０Ｌ的氧并在高温（８００Ｋ）退米后几乎彻底消失。０～５０Ｌ的氧暴露量范围内ＯｌｓＸＰＳ的结合能为５２９．６ｅＶ，来是格氧。Ｇｄ／Ｎｉ（１１０）径微氧化再