论文部分内容阅读
基于DILL经典曝光模型，对其分别在深度轴和时间轴上进行扩展：在深度轴上，以基尔霍夫衍射公式为基础，引入复折射率，利用光束传输法的思想计算了某曝光时刻下胶体内部的光场分布；在时间轴上，分析SU8光刻胶的特点及曝光反应过程，建立合适的光交联反应动力学模型，计算不同曝光时刻下的光场分布。通过整个曝光模型的建立，最终给出一定曝光时间后的光场分布；结果表明，在曝光阶段，胶内深层光场整体分布随时间变化不大，曝光时间对曝光阶段光场分布的影响较小，这种影响将在后烘阶段得以放大。