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硅单晶中硼杂质化学光谱分析与物理检测的对比实验
硅单晶中硼杂质化学光谱分析与物理检测的对比实验
来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhangqiang
【摘 要】
:
基于硼的卤化物(BF_3)能与乙腈(CH_3CN)形成稳定的络合物,将试样置于铂金坩埚内加入乙晴作为络合剂,用HF+HNO_3(3:1)在压力溶样器内加温溶解。然后低温蒸发基体硅,杂质溶液转
【作 者】
:
朱春富
张漱珍
【机 构】
:
机电部电子专用材料质量检测中心,机电部电子专用材料质量检测中心300192天津,300192天津,300192天津
【出 处】
:
光谱学与光谱分析
【发表日期】
:
1992年3期
【关键词】
:
络合
硅单晶
硼
化学光谱法
Complex
Matrix
Electrical parameter
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基于硼的卤化物(BF_3)能与乙腈(CH_3CN)形成稳定的络合物,将试样置于铂金坩埚内加入乙晴作为络合剂,用HF+HNO_3(3:1)在压力溶样器内加温溶解。然后低温蒸发基体硅,杂质溶液转移到平头石墨电极上,交流电弧激发光谱分析。
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