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传统铝互连技术面临的挑战集成电路特征线宽缩小到0.13μm以下乃至进入纳米阶段后,金属布线的层数越来越多(逻辑器件达7～8层),金属导线的自身电阻及其间的寄生电容越来越成为影响器件速度的制约因素。所以,金属导线的互连技术也是目前必须解决的工艺问题之一。
新型集成电路互连技术——铜互连技术
【摘 要】
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传统铝互连技术面临的挑战集成电路特征线宽缩小到0.13μm以下乃至进入纳米阶段后,金属布线的层数越来越多(逻辑器件达7～8层),金属导线的自身电阻及其间的寄生电容越来越成为
【机 构】
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合肥工业大学理学院,合肥工业大学理学院
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2002年5期
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