【摘 要】
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研究了多孔硅（porous silicon,PS）在氧等离子体环境中退火温度和存储时间对PS光学稳定性的影响。通过光致发光（PL）谱和傅里叶变换红外光谱对系列样品进行分析。高斯拟合结果显示P
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研究了多孔硅（porous silicon,PS）在氧等离子体环境中退火温度和存储时间对PS光学稳定性的影响。通过光致发光（PL）谱和傅里叶变换红外光谱对系列样品进行分析。高斯拟合结果显示PL谱由三个高斯峰叠加而成,其中至少两个高斯峰是由非量子限制效应造成的,即第一峰面积的变化与Si=O双键密切相关,第三峰面积的变化与Si-O-Si桥键以及SiHx（x=1,2）键有关;退火温度对以上两个峰的强弱变化有直接影响。
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