【摘 要】
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采用旋涂的方法在基底材料表面原位生长BiOX(X=Cl、Br、I)薄膜材料。样品的晶体结构和光学性质等通过X射线粉末衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)
【机 构】
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郑州大学化学与分子工程学院,许昌学院,华北水利水电大学
【基金项目】
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国家自然科学基金(61504117,21673200)
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采用旋涂的方法在基底材料表面原位生长BiOX(X=Cl、Br、I)薄膜材料。样品的晶体结构和光学性质等通过X射线粉末衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)进行了表征。结果表明旋涂法制备的BiOX薄膜是纯净的,无其他杂质,均匀性好。通过对BiOX薄膜材料的光催化性能和瞬态表面光电压技术(TPV)进行了研究,发现卤素掺杂的BiOBr0.48I0.52具有较好的光催化性能。其结果表明催化性能提高的原因可能是BiOBr0.48I0.52薄膜在光照下可以产生更强的光生载流子并具
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