单晶 In2O3及 In2O3掺杂 Sn 的光电性能的研究

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wsadzjh

【摘要】

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用融熔法研制了 In_2O_3和 ITO(In_2O_3掺杂 Sn)单晶,并对其光电性能进行研究.纯 ITO 是一种简并半导体,在常温下,以晶格声子散射为主要的载流子传输机理.对 ITO 单晶,给出了

【作者】

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文世杰 CampetG. PortierJ.

【机构】

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中国科学院上海硅酸盐研究所,LABORATOIREdeCHIMIEduSOLIDEduCNRSI’UNIVERSITEdeORDEAUXI.33405TALENCE

【出处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

1993年2期

【关键词】

：

In2O3 ITO 电阻率载流子浓度迁移率

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用融熔法研制了 In_2O_3和 ITO(In_2O_3掺杂 Sn)单晶,并对其光电性能进行研究.纯 ITO 是一种简并半导体,在常温下,以晶格声子散射为主要的载流子传输机理.对 ITO 单晶,给出了载流子浓度与 Sn 掺杂浓度及载流子迁移率的关系.并对在单晶中由于用助溶剂而引入的 Pb 掺杂对材料电性能的影响作了探讨.从材料的吸收光谱图中的本征吸收限的变化及 Plasma 频率和坡度的变化,证实了我们对电性能测试的结果.EXAFS 结构测试结果给出了这二种材料导电率变化的因素.

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