【摘 要】
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用热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法(PCVD)合成:c-BN薄膜获得成功。实验结果表明,灯丝温度、反应气压、衬底温度、灯丝与衬底距离对薄膜质量有重要影响。
Hot wire assisted RF plasm
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用热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法(PCVD)合成:c-BN薄膜获得成功。实验结果表明,灯丝温度、反应气压、衬底温度、灯丝与衬底距离对薄膜质量有重要影响。
Hot wire assisted RF plasma chemical vapor deposition (PCVD) synthesis: c-BN film was successful. The experimental results show that the filament temperature, the reaction pressure, the substrate temperature, the distance between the filament and the substrate have an important impact on the quality of the film.
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