SiN薄膜三阶非线性增强的研究

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：deeyf

【摘要】

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采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理技术制备纳米硅镶嵌氮化硅(ncSi-SiNx)复合薄膜.通过X射线能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)的测定,对薄膜进行了结构及所包含硅晶粒大小的

【作者】

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宋江婷郭亨群王加贤吴志军王国立沈海波徐骏陈坤基

【机构】

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华侨大学,中国科学院,南京大学

【出处】

：

半导体技术

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

纳米硅镶嵌氮化硅薄膜射频磁控反应溅射光学非线性量子限域效应 Z扫描

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采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理技术制备纳米硅镶嵌氮化硅(ncSi-SiNx)复合薄膜.通过X射线能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)的测定,对薄膜进行了结构及所包含硅晶粒大小的表征.采用皮秒激光器运用单光束Z扫描技术开展了对该复合薄膜的非线性光学性质的研究,测得其三阶非线性折射率系数和非线性光吸收系数分别为10-8 esu和1018m/W量级,并将薄膜这种三阶光学非线性的增强归因于量子限域效应.

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