密闭式电喷雾离子源中流场的分布特征

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利用流体力学模拟软件Fluent构建了电喷雾离子源的二维模型,并基于所构建的模型探讨了离子源构型、辅助气引入方式、气体流速对源内流场分布的影响。结果表明,相比于其它两种结构,矩形结构的离子源能够提供较为稳定的流场。通入同轴辅助气和正交方向辅助气都能够起到聚集样品喷雾的效果,但作用效果却并不相同。提高同轴辅助气流速,能够增大喷口处混返区域,改变气流驻点位置。而增大正交方向辅助气流速,虽然同样能够提高源内各处气体流速,但并不会改变喷口处混返区域的大小。以Turbo V离子源为研究对象,考察了喷针位置、辅助气流
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