脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究

来源 :中国材料科技与设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sqlservermaintenance
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实验用于高能量驱动的一种靶目前主要是Me-Mo阻抗匹配靶,即用已知高压状态方程数据的Mo标准材料与未知的待测材料Me相匹配成微靶,通过激光加载实验并计算Me材料的p(V)曲线,近而获取Me的状态方程数据。目前,微米级厚的Mo薄膜可以通过机械(化学)抛光的方法获得,但过程可控性不强,终态薄膜的有效使用面积小。另一种途径是采用物理气相沉积(PVD)制备Mo薄膜。
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