【摘 要】
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用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2 薄膜 ,并分别在 30 0℃、4 0 0℃、5 0 0℃下进行热处理。用紫外吸收光谱、原子力显微镜 (AFM)、接触角测定等分析方法研究了制备工艺
【机 构】
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大连轻工业学院,大连轻工业学院,大连理工大学
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用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2 薄膜 ,并分别在 30 0℃、4 0 0℃、5 0 0℃下进行热处理。用紫外吸收光谱、原子力显微镜 (AFM)、接触角测定等分析方法研究了制备工艺、热处理和紫外光照射时间对薄膜表面亲水性的影响。结果表明 ,经紫外光照射或热处理后的TiO2 薄膜表面表现出明显的超亲水性 ,而制备工艺的变化对亲水性的影响不明显。光谱、AFM分析表明 ,导致薄膜表面亲水性的原因在于薄膜表面微结构的变化。
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