【摘 要】
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中频磁控溅射镀膜具有成膜均匀,膜重复性好,靶材不易中毒等诸多优点,适用于大规模生产,因此应用广泛。中频磁控溅射技术在电源的设计和应用方面非常重要,目前较为成熟的是正
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中频磁控溅射镀膜具有成膜均匀,膜重复性好,靶材不易中毒等诸多优点,适用于大规模生产,因此应用广泛。中频磁控溅射技术在电源的设计和应用方面非常重要,目前较为成熟的是正弦波和脉冲方波两种输出方式。本文阐述了正弦波输出方式的基于LCC谐振逆变器的中频磁控溅射电源的设计方法,并基于该电源的输出特性,分析该电源有利于提高镀膜工艺中的沉积效率,有利于抑制等离子体负载打弧,有利于等离子体负载特性匹配等优点。最后用正弦波输出方式的中频磁控溅射电源与脉冲方波输出方式的电源做了输出特性对比试验。
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