【摘 要】
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渗硅合金化４５钢化学气相沉积金刚石膜新方法高志栋，陈志清，曾效舒，梁吉，魏秉庆，吴德海（清华大学）化学气相沉积（ＣＶＤ）金刚石膜的基底通常使用单晶硅。在钢基底上沉积一层金刚石膜，利用其优异的
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渗硅合金化４５钢化学气相沉积金刚石膜新方法高志栋，陈志清，曾效舒，梁吉，魏秉庆，吴德海（清华大学）化学气相沉积（ＣＶＤ）金刚石膜的基底通常使用单晶硅。在钢基底上沉积一层金刚石膜，利用其优异的抗磨、化学稳定、绝缘、导热性能好等优点，应用将十分广阔。由于...
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