电弧离子镀Ti（CxN1—x）薄膜的结构和力学性能研究

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【摘要】

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利用电弧离子镀设备,沉积了不同C、N比的Ti(CxN1-x)薄膜,研究了C含量对Ti(CxN1-x)薄膜的结构(相结构、择优取向及晶格常数)及力学性能(硬度、膜基结合强度及抗磨损性能)的影

【作者】

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李明升王福会孙超蒋长荣闻立时

【机构】

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中科院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室,中科院金属研究所表面工程重点实验室

【出处】

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材料保护

【发表日期】

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2002年12期

【关键词】

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电弧离子镀 Ti(CxN1-x)薄膜结构力学性能研究电弧 ion plating electric arc Ti(C-xN-{1-x}) coati

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利用电弧离子镀设备,沉积了不同C、N比的Ti(CxN1-x)薄膜,研究了C含量对Ti(CxN1-x)薄膜的结构(相结构、择优取向及晶格常数)及力学性能(硬度、膜基结合强度及抗磨损性能)的影响.结果表明,复合镀层的C、N比随CH4、H2流量之比而变化,但原子百分数之和基本不变(约46.5%).复合镀层结构致密,与基体结合良好,抗磨和切削性能优于TiC和TiN镀层.

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