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采用多级激光扩束获得大面积的均匀光场分布,利用相干刻蚀(IL)技术,制作了大面积(3.23 cm2)的二维(2D)周期阵列结构,如光栅和栅格,并以此阵列制备出空间周期为300 nm的金属Ag、Au和磁性材料Ni的点阵结构.
用相干刻蚀制作大面积的二维纳米阵列
【摘 要】
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采用多级激光扩束获得大面积的均匀光场分布,利用相干刻蚀(IL)技术,制作了大面积(3.23 cm2)的二维(2D)周期阵列结构,如光栅和栅格,并以此阵列制备出空间周期为300 nm的金属Ag
【机 构】
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天津大学精密仪器和光电子工程学院,美国西北大学物理与天文学系
【出 处】
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光电子·激光
【发表日期】
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2004年期
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