【摘 要】
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为了降低DLC膜的内应力,提高其力学性能,采用磁控溅射法在Si（100）基体上交替沉积了不同CNx层厚度的DLC/CNx纳米多层膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、X射线光电子能谱（XPS）
【机 构】
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浙江工业大学材料科学与工程学院,杭州绿达金属制品有限公司
【基金项目】
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浙江省自然科学基金（LY15E010007）
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为了降低DLC膜的内应力,提高其力学性能,采用磁控溅射法在Si（100）基体上交替沉积了不同CNx层厚度的DLC/CNx纳米多层膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、X射线光电子能谱（XPS）、拉曼光谱（Raman）、纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机等分析了多层膜的微观组织、成键结构、力学和摩擦学性能。结果表明：所有DLC/CNx多层膜均为非晶结构,结构致密,内应力低（约-475--170 MPa）,强化效应显著。随着CNx层厚度的增大,CNx膜内sp3键含量降低,DLC/
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