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直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用
直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用
来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:baggio126000
【摘 要】
:
基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统。将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品
【作 者】
:
张湘辉
汪灵
龙剑平
【机 构】
:
成都理工大学材料与化学化工学院,成都理工大学金刚石薄膜实验室
【出 处】
:
人工晶体学报
【发表日期】
:
2011年1期
【关键词】
:
直流弧光放电
等离子体CVD
金刚石薄膜
基底托架
温度自动控制
DC arc discharge plasma chemical vapor depositi
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基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点,设计开发了基底自动控温系统。将该系统应用于金刚石薄膜的制备中,并采用SEM、Raman光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征。结果证明该系统具有较好的稳定性,其应用时所制备的金刚石薄膜的品质明显得到提高,具有广泛的应用前景。
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