【摘 要】
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磁控溅射系统中的磁场分布对溅射过程的稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有着重要影响,合理的磁场分布可以使靶材附近的等离子体分布更加均匀,进而减小靶材上不同位置
【机 构】
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北京航空航天大学,机械学院,材料加工与控制系100191香港城市大学,应用物理及材料系
【出 处】
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2010全国荷电粒子源、粒子束学术会议
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磁控溅射系统中的磁场分布对溅射过程的稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有着重要影响,合理的磁场分布可以使靶材附近的等离子体分布更加均匀,进而减小靶材上不同位置溅射速率的差异,使刻蚀速度差别进一步减小,增加靶材的刻蚀范围,延长靶材的寿命。
同样,合理的磁场设计能够提高溅射过程的稳定性。本文针对六靶复合表面改性设备进行磁场系统的模拟和计算,主要介绍了该系统的磁场分布,并利用有限元方法对磁场进行了模拟,以得到较为理想的磁场分布,为进一步优化设计提供理论依据。
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