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在电磁散射测量中,目标支撑结构的性能非常重要,不仅要求其本身的RCS要小,而且支架与目标的相互作用也要小.根据对一些参考文献的分析,提出了一个新的金属支架方案,较好地满足散射测量的要求.并根据等效电流的概念,计算出了其RCS.
一种新型目标支架的设计和理论分析
【摘 要】
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在电磁散射测量中,目标支撑结构的性能非常重要,不仅要求其本身的RCS要小,而且支架与目标的相互作用也要小.根据对一些参考文献的分析,提出了一个新的金属支架方案,较好地满
【机 构】
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上海大学,通信与信息工程学院,上海,201800
【出 处】
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上海大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2000年1期
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