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概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点,并对其优缺点进行了评价.
纳米压印光刻中模版与基片的平行调整方法
【摘 要】
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概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结构与特点,并对其优缺点进行了评价.
【机 构】
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西安交通大学
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2005年2期
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