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采用溶胶-凝胶法合成高纯（〈50 mg·kg-1 SiO2）Ce0.8Nd0.2O1.9（NDC）和SiO2含量为500 mg·kg-1的Ce0.8Nd0.2O1.9（NDCSi）体系,将1mol%MoO3分别加入到NDC和NDCSi体系,比较研究MoO3掺杂对体系微观结构和电性能的影响。通过X射线衍射（XRD）和场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）对材料进行表征,交流阻抗（AC）分析仪测试材料的电阻。结果表明：MoO3和SiO2的加入均没有破坏体系的立方莹石结构;MoO3掺杂能提高N