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<正>在集成电路的制造过程中,刻蚀就是利用化学或物理方法有选择性地从硅片表面去除不需要的材料的过程。从工艺上区分,刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀。
金属铝刻蚀工艺简介
【摘 要】
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<正>在集成电路的制造过程中,刻蚀就是利用化学或物理方法有选择性地从硅片表面去除不需要的材料的过程。从工艺上区分,刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀。
【机 构】
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应用材料（中国）有限公司
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2007年08期
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