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以CF4、CH4和N2的混合气体为源气体，利用rf-PECVD沉积技术制备了氮掺杂氟化非晶碳（a_C：F：N）薄膜，研究了源气体流量比对a_C：F：N薄膜沉积速率和结构的影响。用椭圆偏振光谱测试仪测量了薄膜厚度，结合沉积时间计算了薄膜的沉积速率（在18～21nm／min之间），随流量比增大，薄膜的沉积速率先升高后降低。FTIR光谱分析表明，随流量比增大，薄膜中含F量降低，交联结构增强。Raman光谱分析发现，薄膜中的碳原子由sp^2和sp^3两种组态的混合结构组成，并进一步证明，随流量比增大，薄膜中sp^