【摘 要】
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研究了石墨球数为490-1 100个/mm-2在280℃和360℃奥氏体等温淬火的ADI基体上沉积PVD-TiN涂层,在300℃用电弧离子喷涂工艺进行沉积,评价了基体显微组织对涂层特性的影响以及
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研究了石墨球数为490-1 100个/mm-2在280℃和360℃奥氏体等温淬火的ADI基体上沉积PVD-TiN涂层,在300℃用电弧离子喷涂工艺进行沉积,评价了基体显微组织对涂层特性的影响以及沉积过程对奥氏体显微组织产生变化的可能性,检测了试样中存在的相、涂层沉积方向、沉积膜的厚度、硬度、杨氏模量、表面形貌和涂层粘着性,检测了沉积前后奥氏体基体的金相特性和残余奥氏体数量。检测结果表明,PVD-TiN涂层（111）面的初始方向与表面平行,膜的厚度约2μm,基体特性影响努普硬度,其值在1700-2100HK
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