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红外减反射保护膜具有特定的厚度要求，如能进一步减小无氢类金刚石膜（DLC）的光学吸收，就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广泛应用。从这点来讲，无氢类金刚石膜是一种极具开发潜力的材料。本文采用非平衡磁控溅射技术（UBMS）制备了无氢类金刚石膜，并研究了其厚度均匀性。研究结果表明：该非平衡磁控溅射装置有能力获得大于69150mm的均匀性范围。对DLC膜红外透射谱的分析表明，分别在Si和Ge基底表面单面制备的DLC薄膜，其峰值透射率在波数2983／cm时分别为68．83％和63．05％，这一结果接近无吸