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本文采用非平衡直流磁控溅射方法制备CrNX薄膜,研究沉积参数对膜结构和性能的影响.结果表明沉积过程中增加N2的分压,薄膜的组成由Cr2N相转变成CrN相,膜的表面形貌也由胞状转化为正四面体.增加样品台的负偏压,沉积膜层更加致密,表面更加平坦.
沉积参数对磁控溅射CrNX膜结构和性能的影响
【摘 要】
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本文采用非平衡直流磁控溅射方法制备CrNX薄膜,研究沉积参数对膜结构和性能的影响.结果表明沉积过程中增加N2的分压,薄膜的组成由Cr2N相转变成CrN相,膜的表面形貌也由胞状转
【机 构】
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北京师范大学分析测试中心,蔚山大学材料工程学院
【出 处】
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现代仪器
【发表日期】
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2004年期
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