非掺半绝缘InP材料的电子辐照缺陷研究

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：tx9yky2w

【摘要】

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本文针对磷化铁（FeP2）气氛下高温退火非掺杂半绝缘磷化铟（IP SI-InP）材料,应用正电子寿命谱及热激电流谱学技术,研究了该材料在电子辐照前后的缺陷情况.研究发现,该材料经电子辐

【作者】

：

陈燕邓爱红赵有文张英杰余鑫祥喻菁龙娟

【机构】

：

四川大学物理科学与技术学院物理系; 中国科学院半导体研究所;

【出处】

：

四川大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2010年05期

【关键词】

：

磷化铟正电子寿命谱电子辐照缺陷

【基金项目】

：

国家自然科学基金(10775102)

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本文针对磷化铁（FeP₂）气氛下高温退火非掺杂半绝缘磷化铟（IP SI-InP）材料,应用正电子寿命谱及热激电流谱学技术,研究了该材料在电子辐照前后的缺陷情况.研究发现,该材料经电子辐照后缺陷浓度在增大,且形成了复合体的缺陷结构.电子辐照后的正电子湮没平均寿命增加了18 ps,对应的热激电流谱（TSC）也出现了相应的缺陷峰.本文还对缺陷的特性、影响材料的性能等进行了简要的论述.

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