【摘 要】
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本文详细地分析了离子注入掺铒硅的光致发光谱，有５个发光峰分别位于１．５３６μｍ、１．５５４μｍ、１．５７０μｍ、１．５９８μｍ和１．６４０μｍ，其中１．５３６μｍ发光峰最强．结合背散射谱，认为其有效的发光中心为处于Ｔｄ对称中心的填隙铒Ｅｒ３＋离子．在Ｅｒ与Ｏ、Ｎ、
【机 构】
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中国科学院半导体研究所,厦门大学物理系,北京大学技术物理系,集成光电子国家重点实验室
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本文详细地分析了离子注入掺铒硅的光致发光谱，有５个发光峰分别位于１．５３６μｍ、１．５５４μｍ、１．５７０μｍ、１．５９８μｍ和１．６４０μｍ，其中１．５３６μｍ发光峰最强．结合背散射谱，认为其有效的发光中心为处于Ｔｄ对称中心的填隙铒Ｅｒ３＋离子．在Ｅｒ与Ｏ、Ｎ、Ｃ共掺样品应分别存在Ｅｒ－Ｏ、Ｅｒ－Ｎ和Ｅｒ－Ｃ发光中心，其对应的ＰＬ发光峰分别为１．５７０μｍ、１．５３６μｍ和１．６０８μｍ．
In this paper, the photoluminescence spectra of erbium-doped silicon by ion implantation are analyzed in detail. The five luminescence peaks are 1.536μm, 1.554μm, 1.570μm, 1.598μm and 1.640μm, respectively, of which 1.536μm Strong. Combined with backscattering spectra, it is considered that the effective luminescent center is the interstitial erbium Er3 + ion located in the symmetry center of Td. The Er-O, Er-N and Er-C luminescent centers should exist respectively in Er and O, N, C co-doped samples. The corresponding PL luminescence peaks are 1.570μm, 1.536μm and 1.608μm respectively.
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