【摘 要】
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采用直流非平衡磁控溅射方法在M42高速钢表面沉积Ti/TiN/TiAlSiN多层薄膜,研究基底偏压对TiAlSiN的晶体结构、微观组织、力学及摩擦学性能的影响.结果 表明:基体负偏压从40V
【机 构】
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江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江212013
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采用直流非平衡磁控溅射方法在M42高速钢表面沉积Ti/TiN/TiAlSiN多层薄膜,研究基底偏压对TiAlSiN的晶体结构、微观组织、力学及摩擦学性能的影响.结果 表明:基体负偏压从40V增加到80 V,TiAlSiN由致密的粗大柱状晶向致密纤维状细晶过渡、晶粒宽度由180 nm减小至60 nm;当负偏压大于60V时,TiAlSiN层由fcc TiN+fccAlN双相结构转变为fcc TiAlN单相结构;涂层硬度和弹性模量随偏压增大呈现上升趋势,当负偏压为80V时,涂层的硬度和弹性模量分别为34.1 GPa和378 GPa;涂层的摩擦学性能随偏压的增大而先增强后降低,当负偏压为40V时,涂层磨损率为5.0× 1006 mm3/Nm,当负偏压为50 V时,涂层则降低至5.0× 10-6 mm3/Nm,为最低值,随着负偏压增加到80V时,磨损率较高,约9.0×10-6mm3/Nm.
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